我国光刻机从世界前列到落后世界20年就四个字：造不如买

2026-01-25 01:09:05　　点击量：

　　徐端颐和一代科研人的心血，见证了中国光刻机从追平世界到落后二十年的跌宕。他们在封锁中从零造出尖端设备，却因一场思想转向，让多年积累的技术根基险些断层。

　　新中国成立初期，我国工业和国防急需半导体技术支撑，1956年国家将半导体纳入科学规划重点，同年11月就研制出第一只晶体三极管，起步速度与国外基本同步。当时国际上“巴黎统筹委员会”对我国实施尖端技术封锁，光刻机这类关键设备严禁出口，我们只能自力更生。1961年从清华大学毕业的徐端颐，原本在江西农场“改造”，深夜接到紧急调令返回北京，受命研制国家急需的光刻机和分步重复照相机。

　　没有图纸、没有参考资料，甚至没有现成的零部件，徐端颐带领涵盖清华5个系的数百人团队，自己设计图纸、自己加工零件。值得明确的是，中国第一台接触式光刻机于1965年由中国科学院光电技术研究所（前身）联合相关单位研制成功，徐端颐团队则在1970年代专攻更先进的分步重复投影光刻机。从氦-氖气体激光器到精密导轨，从数字控制计算机到投影物镜，每一个核心部件都靠手工打磨和反复试验。1971年，他们研制的分步重复投影光刻机投入规模生产供应全国，这个成果后来拿到了全国科技大会奖。1980年，第二代“自动对准分步投影光刻机”研制成功，加工最细线微米，填补了国内空白，达到当时国际主流水平。

　　这期间，全国光刻机研发形成了合力。1977年5月，42个研制单位的67人在江苏吴县召开座谈会，定下追赶国际先进水平的目标。1982年，中电科45所造出分布式光刻机，技术水平接近当时日本尼康的同类型产品，与美国的技术差距约为5年。而此时，后来的行业巨头荷兰阿斯麦（ASML）1984年才正式成立，其依托飞利浦的技术积累，初期就占据了欧洲小部分光刻机市场份额，台积电还要两年后才起步，中国光刻机站在了极具潜力的起点上。那些年的科研人凭着一股劲，没奖金、没加班费，却主动加班加点，就想让国家在核心技术上腰杆硬起来。

　　转折点出现在上世纪80年代，国际形势缓和，西方对我国的设备出口限制放宽，之前买不到的光刻机现在能直接进口了。光刻机研发本就耗时耗钱，短期内难见回报，“造不如买”“买不如租”的想法开始蔓延，甚至影响了政策导向。最直接的冲击就是科研经费大幅削减，许多尖端项目被迫下马。徐端颐团队没有停下脚步，1990年代初，他们研制出支持0.8微米工艺的光刻机，通过电子工业部鉴定，还能将芯片成品率提高27%，中科院109厂等单位原本已有采购意向。

　　可就在准备量产的关键节点，美国、日本等国宣布取消光刻机出口禁令，不仅价格优惠，还附带海外考察等条件。原本打算买国产设备的单位纷纷改弦更张，长期合作的中科院109厂也取消了订单，国产光刻机一下子没了市场。徐端颐的团队耗尽心血造出的设备，只能搁置在实验室，团队成员要么转行，要么退休，积累多年的技术经验没能传承下去，形成了严重的技术断代。

　　需要补充的是，国产光刻机失去市场，除了“造不如买”的思路，还有国内半导体产业整体转型滞后的因素——当时国内芯片厂更倾向于引进成熟的国外产线，国产光刻机缺乏配套的应用场景，并非单纯因进口设备冲击。与此同时，国外企业却在快速崛起，阿斯麦抓住机会吸收各国先进技术，与台积电等企业深度合作，接受“浸润式光刻”等关键技术方案，逐渐垄断高端市场。而我们在依赖进口的几十年里，部分进口环节存在重采购、轻研发的倾向，慢慢弱化了自主研发的动力。

　　更让人痛心的是，“造不如买”的思路毁掉的不止光刻机，一批国防科研项目，都因同样的原因中断。整个半导体产业链也受牵连，芯片制造产业跟不上，光刻机缺乏应用场景无法迭代，原本自建的供应链慢慢瓦解。

　　等到我们醒悟过来，差距已经拉得极大。如今国内多家企业已研制出28纳米级别的光刻机，部分可用于特定芯片的量产，不再是只能支持65纳米工艺的水平。即便如此，与阿斯麦已推出的支持1.4纳米及以下制程的极紫外光刻机相比，仍有不小差距，这类高端设备单台售价超过四亿美元，且对我国实施出口限制。从28纳米到3纳米，国际上用了二十年时间，投入超过四百亿美元，我们现在追赶不仅要突破技术壁垒，还要面对更严密的国际封锁，付出的代价远比当年坚持自主研发大得多。

　　徐端颐后来转向其他领域研究，可他始终惦记着光刻机。那些年他编写教材、举办短训班，想把技术传承下去，却没能阻止行业的断层。他和团队当年的坚持证明，中国科研人能在封锁中造出世界水平的设备，可一旦放弃自主研发，依赖进口的捷径终将变成断路。

　　有人说当年的选择是特定历史条件下的无奈之举，也有人说“造不如买”是短视的错误。但历史已经给出答案：核心技术从来买不来、讨不来。徐端颐们用青春和汗水证明了我们的研发能力，而那段从领先到落后的经历，更该让我们铭记：关键核心技术必须牢牢握在自己手里。在自主创新的路上，哪怕再难，是不是也该比当年的科研人更有坚持下去的底气？